MPCVD相关论文
目前受控热核聚变能被认为是能够有效解决人类未来能源需求的清洁新能源,燃烧等离子体、托卡马克聚变堆工程技术、聚变堆各类材料......
本文研究了在反应气体中引入不同浓度的CO2对微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）法同质外延生长单晶金刚石内应力的影响，并对其作用机理......
被称作“终极半导体材料”的金刚石是目前最具发展前途的半导体材料。然而,由于金刚石尺寸及价格的限制使其很难快速推动金刚石半......
采用微波等离子化学气相沉积(MPCVD)法,以高纯甲烷和氢气为反应气体,在TiZrHf中熵合金表面碳化-沉积获得碳化物/金刚石涂层.利用扫......
The diamond nanowires are expected to possess unique mechanical and electronic properties,such as the predicted brittle ......
宽禁带半导体碳化硅(SiC)薄膜因其高热导率、高电子迁移率和高饱和电子漂移速度等优异性质而受到广泛关注.同时,其稳定的化学性质......
C3N4 films have been synthesized on both Si and R substrates by microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) metho......
用微波等离子体化学气相沉积法（ MPCVD）在氧化铝陶瓷衬底上成功地制备出具有 [100] 织构的金刚石薄膜，并对该薄膜进行了 X射线衍射（ XR......
为了满足生命科学、医学、微电子和光学等前言科学对高品质真空窗口的需求,制备高致密度高质量的纳米金刚石真空窗口变得越来越迫......
微波等离子体化学气相沉积法(microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD),因具有无电极放电污染、沉积速率快、稳定性好......
金刚石膜具有能够媲美单晶金刚石的优异物理化学性能,同时能够满足大尺寸的制备要求,是理想的红外窗口和芯片散热材料.本文采用微......
本文以高温高压(HPHT)合成的金刚石为籽晶,通过微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)外延生长金刚石方法,研究了金刚石表面沟槽的横向......
金刚石薄膜具有一系列优异性能,使其在多种领域得到广泛的应用,但是常规CVD金刚石薄膜晶粒度较大,呈柱状生长,表面较粗糙,同时高硬......
该文详细介绍了自行研制的2450MHz/5KW带有石英玻璃窗、水冷却不锈钢腔体微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置.论述了包括微波系......
本文系统地研究了在硬质合金上MPCVD沉积金刚石薄膜的实验过程中，甲烷浓度、沉积气压、气体流量、基体温度等不同实验工艺参数对金......
该论文利用金刚石的宽禁带、高电阻率、低原子序数等优异性能,研制具有高信噪比、结构简单、抗辐射的单元金刚石薄膜粒子探测器.采......
通过微波等离子体化学气象沉淀装置(MPCVD),分别选用CVD金刚石种晶、HTHP金刚石种晶进行同质外延生长,用以合成单晶金刚石,对比两......
Systematic research on the performance of self-designed microwave plasma reactor for CVD high qualit
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
C3N4 films have been synthesized on both Si and Pt substrates by microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) meth......
利用MPCVD方法在玻璃基片上成功的制备了非常光滑、致密均匀的纳米金刚石膜。沉积工艺分为两步 :成核 ,CH4 /H2 =3% ;生长 ,O2 /CH......
通过偏压微波等离子体化学气相沉积法 (MPCVD)成功地在Si(10 0 )上生长出具有 [10 0 ]织构的金刚石薄膜 .阐述了实验过程 ,讨论了......
用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),探讨了在Si(100)衬底上加偏压电场情况下金刚石膜的成核行为.侧向力显微(LFM)表明偏压电场......
研究了基片预处理和工艺参数对微波 等 离子化学气相沉积金刚石涂层WC-8.0%Co刀具质量的影响， 研究了提高成核密度和沉积 速 率的方......
利用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),在CH4/H2体系下沉积金刚石膜,通过发射光谱仪测量等离子体参数,结合Raman光谱仪测量金刚......
根据核辐射探测器的要求,研究了不同处理方式下的基片对金刚石膜质量的影响以及气源中不同甲烷浓度对金刚石膜质量的影响。采用微......
介绍了制备人造单晶金刚石的技术途径及发展现状,重点讨论并对比了几种化学气相沉积法(CVD)金刚石制备技术的优缺点,详细阐述了基......
利用微波等离子体化学气相沉积（MWPCVD）方法，在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过SEM、拉曼光谱和XRD表征，讨论了制备温度和甲烷浓......
在两种经不同预处理的硬质合金YG8基底上,采用微波等离子体化学气相沉积法,在微波功率2 kW,压强4.0 kPa和6.5 kPa,CH-4和H-2流量分......
在钛-铝-钼为过渡层的Cu片上，用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）方法首先沉积-层微米金刚石薄膜，然后沉积纳米金刚石薄膜，制备了微-纳......
以镀有Mo过渡层的Al2O3衬底,在微波等离子体增强化学气相沉积系统中,制备了非晶碳/Mo2C混合结构薄膜,反应气体为CH4和H2.在高真空......
超纳米晶金刚石(UNCD)在短毫米波特别是太赫兹真空器件输能窗中具有潜在的应用价值。本文介绍了UNCD膜的制备工艺和性能表征。利用......
金刚石膜是一种集众多优异性能于一身的新材料,尤其是其热导率高、绝缘性能好以及微波介电损耗低等特点,使金刚石膜在微波电真空器......
本实验使用石英钟罩微波等离子体化学气相沉积装置，采用“四步沉积法”在含有Ti原子层的玻璃表面，沉积类金刚石膜。保证其他参数不变......
在微波等离子体化学气相沉积装置中,研究了金刚石薄膜在Si(100)面上的负偏压形核行为,结果表明,偏压大小对金刚石的形核均匀性有显......
近年来研究表明,在微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）制备金刚石的过程中,增大反应气压和微波功率是提高金刚石生长速率的有效途径......
较详细地叙述了当前国内外正处在研究热潮中的金刚石半导体的优越性质、发展状况及其应用和潜在的应用前景.同时分析和比较了金刚......
为改进微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置中的加热系统,提出了用基片加热材料替代常规加热方式的新的技术路线;建立了基片加热......
采用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）系统,在单晶硅基底上,以三聚氰胺为氮源实现纳米金刚石（NCD）薄膜N原子掺杂,并通过控制反应气体的......
为解决表面疏水导致的超纳米金刚石/多层石墨烯复合薄膜(UNCD/MLG)电容性能差的问题,通过电化学阳极氧化工艺对微波等离子化学气相......
用微波等离子体化学气相淀积法(MPCVD)在Si基片上生长了金刚石薄膜,通过对其进行Raman光谱分析,一次表征了金刚石的结构、纯度及应......
利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,以丙酮为碳源,用二甲基二硫和三氧化二硼作掺杂源,在硅衬底上制备了硼与硫共掺杂的金刚......
利用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过正交设计方法综合研究了反应温度、气压、沉积时......
以甲烷、氢气做为气源,利用微波等离子气相沉积的方法在硅片上沉积金刚石薄膜.研究了不同浓度的甲烷对金刚石薄膜形貌和晶向的影响......
使用自行研制的MPCVD装置,在功率为8 kW条件下、气体由四种方式进出反应腔体时,在直径65 mm的Si基片上制备了金刚石膜。分别利用数......
利用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）法在黑硅和抛光单晶硅片衬底上生长非晶碳薄膜，其中变量为CH4流量，分别为10sccm、14sccm、18sccm......
金刚石具有优异的物理化学性能,在很多领域的应用前景十分诱人。用化学气相沉积（CVD）法实现高沉积速率、高质量、大面积金刚石单晶的......
为了在氧化铝上制备(100)定向织构的金刚石薄膜，必须先提高金刚石的成核密度。在微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）系统中，采用低压成核......
